IBF650离子束抛光机床介绍
基本信息及性能参数
加工范围、精度

IBF650是针对600mm以下的光学元件设计的抛光装备,运动系统采用框架式一体化设计隔离真空变形的影响,同时采用全局变函数补偿算法,具有高确定性、高稳定性和高收敛比等特点,可实现光学元件超高精度加工。

可加工的材料
· 金属铝反射镜,蓝宝石,碳化硅,微晶/熔石英,零膨胀玻璃,单晶硅,锗及其他光学材料
可加工的面形
· 平面、球面、非球面和自由曲面等。
加工精度
· 面形精度RMS和表面粗糙度均可达亚纳米精度



基本信息

性能参数

设备体积

占地6m×4.5×3.2m

运动系统

三轴、五轴可选

X/Y/Z轴有效行程

650mm/650mm/150mm

A/B轴有效行程

±30°

离子源

IOT射频离子源(国产射频可选)

加工束径

38mm、20mm、12mm、

8mm、4mm、2mm

真空建立时间

主真空腔室≤60分钟;

副真空腔室≤20分钟;

加工对象与材料

平面、球面、非球面、自由曲面;

石英、微晶、单晶硅、

蓝宝石、碳化硅等

加工精度

可实现面形RMS<1nm超高精度加工

选配

定制化大尺寸束径;

毫米及亚毫米极小束径;

基于法拉第杯的定位与标定模块;

无三坐标模块;

工件自动输送模块


三轴加工现场
五轴运动系统