IBF2000离子束抛光机床介绍
加工范围、精度
抛光原理:在真空条件下,将氩气(Ar)、氪气(Kr)、氙气 (Xe)等惰性气体通过离子源电离产生具有定能量的离子束流轰击工件表面,实现原子量级的确定性材料去除。
可加工的材料
· 金属铝反射镜,蓝宝石,碳化硅,微晶/熔石英,零膨胀玻璃,单晶硅,锗及其他光学材料
可加工的面形
· 平面、球面、非球面和自由曲面等。
加工精度
· 面形精度RMS和表面粗糙度均可达亚纳米精度




基本信息

性能参数

设备体积

占地7m×7m×4m

运动系统

三轴

X/Y/Z轴有效行程

2200mm/2200mm/330mm

A/B轴有效行程

——

离子源

IOT射频离子源(国产射频可选)

加工束径

38mm、20mm、12mm、

8mm、4mm、2mm

真空建立时间

60min

加工对象

平面、球面、非球面、自由曲面;

金厘、石英、微晶、单晶硅、

蓝宝石、碳化硅等

加工精度可实现面形RMS<1nm超高精度加工

选配

定制化大尺寸柬径;

毫米及亚毫米极小束径;

基于法拉第杯的定位与标定模块;

红宝石三坐标自定位模块;

辅助工装输送模块


龙门三轴运动系统
工件自动输送系统
基本信息及性能参数